近日，德國光學組件和傳感器系統供應商Jenoptik斥資千萬歐元，投資了一種新的電子束（E－Beam）光刻系統。據悉，新的電子束系統將由總部位于德國業納的電子束技術專家Vistec Electron Beam GmbH公司研制，將于2022年中期在德國德累斯頓工廠投入使用。該系統是開發和生產下一代超精密傳感器的核心部件，這對進一步開發DUV和在半導體生產過程中建立高精度EUV晶片曝光至關重要。

Jenoptik表示，新的電子束光刻系統能在300mm大小的基底上實現精度約10納米的光刻（約為毛發直徑的1／ 2000）。Jenoptik把這項技術作為超精密微光學制造的主要使能器，這是其傳感器業務的功能核心。改進后的電子束光刻系統通過精度和靈活性的提高，為未來半導體曝光技術所需的傳感器奠定了技術基礎。

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2020年9月，Jenoptik收購了光學計量公司Trioptics 75％的股份，以期能進一步加強公司在光學和光電子領域的競爭力（尤其是測試和測量技術方面）。收購Trioptics后，Jenoptik預計全年收入將在7.55億到7.75億歐元之間。Jenoptik在光學、傳感器技術和精密機械領域擁有超過150年的專業經驗，是全球領先的高質量光學和微光學系統開發和生產合作伙伴之一，并致力于開發和引進先進的半導體光刻技術。

電子槍：高分辨率的熱場發射，配有高壓，電子束的能量通常在10～100KeV。
電子槍準直系統：對電子槍發出的電子束進行較直。
電磁透鏡：與光學透鏡類似，聚焦電子束。
消像散器：調節聚焦像散，減少誤差。
光闌：改變電子束流。